牌匾也是許多標(biāo)牌廠(chǎng)生產(chǎn)的一種產(chǎn)品，牌匾主要以金屬材料為主，要求大方、明顯、裝飾性強(qiáng)。在傳統(tǒng)金屬牌匾中，以黃銅底、腐蝕字、注黑漆牌匾最為普通。隨著人們審美觀(guān)點(diǎn)的不斷變化，對(duì)牌匾的質(zhì)量也有了新的要求。由于標(biāo)牌行業(yè)引入了網(wǎng)印技術(shù)，也給標(biāo)牌行業(yè)開(kāi)發(fā)新品提供了技術(shù)手段。利用網(wǎng)印法制作新型電鍍牌匾就是標(biāo)牌電鍍與網(wǎng)印工藝相結(jié)合的產(chǎn)物。它的基本方法是在銅板上用絲網(wǎng)印刷制作陰圖圖文，用墨層保護(hù)遮蓋非圖文部位，圖文部分的銅表面裸露，進(jìn)行電鍍，再經(jīng)機(jī)械整形，保護(hù)加工而成。
1.工藝流程
本工藝涉及到電鍍、網(wǎng)印、銅板處理及噴漆和金屬工藝加工，工序較多，工藝流程大致如下：
銅板下料→印前處理→復(fù)核檢查→絲網(wǎng)印版制作→絲網(wǎng)印刷→干燥→鍍前處理→電鍍鎳層→清洗→電鍍鉻層→清洗晾干→ 退除印料→整形焊架→噴罩光漆→檢查出廠(chǎng)
2.主要工藝規(guī)程
1）網(wǎng)印
選用150目/英寸以上的尼龍或滌綸絲網(wǎng)。采用直接感光制版法時(shí)，涂布重氮感光膠的次數(shù)多一些為佳，以便印刷時(shí)能得到較厚的保護(hù)性墨膜。
2)曬版
曬版光源為1000W金屬鹵化物鏑燈，燈距45mm，曝光5分鐘左右。印料是抗電鍍油墨。
3）鍍前處理
鍍前處理液配方及工藝條件如下：
H2SO4 160ml/L
H2O2 140ml/L
CH3CH2OH 120ml/L
CH3COOH 30ml/L
溫度 室溫
時(shí)間 0.5～1分鐘
弱腐蝕活化溶液 H2SO4 10%溶液
4）電鍍亮鎳
電鍍鎳的配方及工藝條件如下：
NiSO4 350g/L
NaCl 20g/L
H3BO3 40g/L
糖精 0.8～1.0g/L
BE添加劑 0.6ml/L
十二烷基硫酸銅 0.05～0.1g/L
pH值 4
溫度 50～55℃
電流密度 3～5A/dm2
攪拌 陰極移動(dòng)
時(shí)間 30～40分鐘
5）電鍍鉻層
電鍍液配方及工藝條件如下：
CrO3 300g/L
H2SO4 2.7～30g/L
Cr 2～5g/L
電流密度 25A/dm2
溫度 50～55℃
時(shí)間 2分鐘
6）整形焊架
焊架可上下折邊，左右焊堵；也可左右折邊，上下焊堵；或四面折邊、四面焊堵。
7）噴罩光保護(hù)漆
由于牌匾是全金屬，沒(méi)有漆墨圖文，所以，可根據(jù)需要，噴罩各種透明漆。但以透明度好、耐曬、結(jié)合牢固的漆層為佳。
來(lái)源：科印網(wǎng)
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