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大氣壓聚合SiOx薄膜用于印刷板材研究(下)

2007/8/10 15:04:24 人評論

  2種方式相比,對于等離子體區(qū)直接進(jìn)樣的聚合方法,基材表面聚合物沉積速度較慢,成膜不連續(xù),而對由等離子體下游區(qū)進(jìn)樣聚合方法成膜均勻.等離子體區(qū)直接進(jìn)樣方式由于單體經(jīng)過等離子體區(qū)時被直接電離,隨即在等離子槍壁和內(nèi)電極表面開始沉積,同時等離子體區(qū)存在很強(qiáng)制電場,也促進(jìn)了離子在電場作用下的槍壁和內(nèi)電極上的沉積這樣能沉積在基材上的單體就大大減少從而影響沉積速率和膜的形成,在實驗后發(fā)現(xiàn)的槍壁與內(nèi)電極上的白色粉狀物質(zhì)證實了這一點.    對化學(xué)鍵能比較分析,Si一0,C一0 2種鍵合方式鍵能最大,生成產(chǎn)物最穩(wěn)定,對鍵合最有利,且單體中已存在si一0鍵,離解后就近復(fù)合的幾率更大,而C一0鍵易生成氣態(tài)物質(zhì)而流失,因此生成Si一0的可能性更大。紅外光譜的實驗分析結(jié)果也表明,產(chǎn)物中主要是SiOx,并伴隨有一定量的SiC,及少量CO 、CH,R、HOR等化合物。    應(yīng)用DBD等離子體槍,在大氣壓下聚合SiOx膜,比較2種不同的進(jìn)樣方式發(fā)現(xiàn),單體輸入采用從空心內(nèi)電極中部導(dǎo)入,在等離子體下游區(qū)進(jìn)樣與從等離子體區(qū)直接進(jìn)樣,其放電特性、成膜結(jié)構(gòu)沒有明顯差別,而成膜速度大大提高,推墨實驗表明,用等離子體下游區(qū)進(jìn)樣聚合的SiOx薄膜斥墨性好,明顯優(yōu)于等離子體區(qū)直接進(jìn)樣,可做新型無水膠印板材。作者/韓爾立1,陳強(qiáng)1,張廣秋1,武昌平2(1.北京印刷學(xué)院;2.中國原子能科學(xué)研究院,信息來源:包裝工程 2005年第四期

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