先進(jìn)測量設(shè)備制造商n&k科技公司宣布通過附加薄膜已經(jīng)解決了對光罩進(jìn)行精確光測量所遇到的問題。n&k科技公司的解決方案包括一個(gè)比較基線技術(shù)（正在申請專利），該技術(shù)把已知和未知的物體同步反射（R）和發(fā)射（T）測量法與去除原始數(shù)據(jù)薄膜效應(yīng)相結(jié)合。這個(gè)創(chuàng)新的方法支持n&k科技公司現(xiàn)有測量方法，就像沒有薄膜一樣。 光罩供應(yīng)商一般都在光罩上放置一個(gè)加外框隔膜的薄膜，以便在光罩制造流程最后步驟后對其進(jìn)行保護(hù)。在這點(diǎn)上，非常值得對光罩品質(zhì)，如槽深、CD、特性以及底片厚度、n and k的價(jià)值、堆積在未去除薄膜的光罩上的原料周相移動（例如MoSiON）進(jìn)行測量。以前，通過一層薄膜進(jìn)行此類測量會導(dǎo)致原始數(shù)據(jù)的明顯改變。有了n&k科技公司的新技術(shù)，可以對能夠看到的有一層薄膜的產(chǎn)品進(jìn)行精確測量。 n&k科技公司的光“反射發(fā)射（RT）”系統(tǒng)，如最近推出的n&k 5700-CDRT，都是基于對反射和發(fā)射的同步測量，已被用于只需一個(gè)步驟就可測量上面提到的沒有薄膜的光罩的品質(zhì)。不過，通過一層薄膜進(jìn)行的反射和發(fā)射的此類光測量可產(chǎn)生無數(shù)的干擾帶，使分析變得復(fù)雜。n&k科技公司采用的比較基線技術(shù)解決了光測量薄膜光罩所遇到的該問題。 n&k科技公司首席執(zhí)行官兼總裁Rahim Forouhi博士說：“這個(gè)針對薄膜光罩新的測量解決方案現(xiàn)在可以作為n&k 5700-CDRT產(chǎn)品的一種選擇予以提供?！彼a(bǔ)充說：“目前，一些專門供應(yīng)光罩原料及半成品的半導(dǎo)體公司已經(jīng)定購了該產(chǎn)品。該產(chǎn)品將于2006年第三季度推出。” 關(guān)于n&k科技公司 位于加利福尼亞州桑塔克拉拉的n&k科技公司為半導(dǎo)體、光罩、平板顯示器以及數(shù)據(jù)存儲行業(yè)生產(chǎn)先進(jìn)的度量衡工具。公司的高分辨率光測量儀器被用于膠片厚度、n and k、周相移動、槽深、CD和品質(zhì)的測量。該核心技術(shù)基于擁有專利的反射光學(xué)DUV-Vis-NIR寬帶吸光光度法結(jié)合Forouhi-Bloomer色散方程和嚴(yán)格耦合波分析。n&k科技公司的設(shè)備從桌面式產(chǎn)品到全自動系統(tǒng)，是業(yè)界業(yè)已證明的、有生產(chǎn)價(jià)值的、快速、準(zhǔn)確和非破壞性產(chǎn)品，支持用戶客觀描述所有薄膠片、感光底層和建筑物。
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