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5  光學與光電導性能Paras N．Prasad等人[18]報導了聚N—乙烯基咔唑(PVK)與表面鈍態(tài)的CdS形成的雜化復合物具有光電導性質(zhì)。其中PVK作為電荷轉(zhuǎn)移高分子基質(zhì)，表面鈍態(tài)的CdS用作電荷產(chǎn)生的光敏劑。Jeffrey G．實驗發(fā)現(xiàn)，此納米復合物的光電導性質(zhì)好于聚N—乙烯基咔唑(PVK)與C60所形成的復合物。R．Premachandran等[19]在反膠束的微結(jié)構(gòu)環(huán)境中用酶催化反應合成了含硫羥基的聚苯酚，在反膠束的水相中合成了CdS半導體納米晶體，通過硫羥基將聚苯酚與CdS半導體納米晶體連接形成納米復合物，此納米復合物在溶液中很穩(wěn)定，固態(tài)時呈微球形狀，并且具有量子點粒子的發(fā)光性質(zhì)。控制共聚單體量，改變Zn／Cd比率可以得到不同含量的ZnS或ZnxCdl-xS與聚甲基丙烯酸甲酯形成的納米復合物。實驗發(fā)現(xiàn)[20]，ZnxCdl-xS復合物具有可調(diào)的發(fā)射波長。通過調(diào)整Zn／Cd的摩爾比，形成的納米復合物可以產(chǎn)生連續(xù)變化的發(fā)光波長，復合樣品呈現(xiàn)不同的發(fā)光顏色。這種納米復合物可望用于電子發(fā)光器件中。Paras N．Prasad等[21]發(fā)現(xiàn)向半導體CdS與聚(N—乙烯咔吧唑)形成的雜化納米復合物加入一定比例的4—氮苯基—L脯氨酸和三羥甲苯基磷酸酯后，納米復合物具有光折射性質(zhì)。其中CdS與聚(N—乙烯咔吧唑)構(gòu)成電荷轉(zhuǎn)移復合物，而發(fā)色團4—氮苯基—L脯氨酸加人高分子中構(gòu)成電子—光子發(fā)生器，三羥甲苯基磷酸酯則用于降低復合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。6  催化活性Nation樹脂，一種Perfluorinated離子交換高分子，常用作多相強酸催化劑，但由于高分子珠子的表面積太小，通常小于0.02m2／g，催化活性受到很大的限制。Mark  A．Harmer等[22]將粒子直徑為20nm～60nm的Nation樹脂加入到多孔硅膠中形成納米復合材料，由于復合材料的表面積增加到150m2／g～500m2／g，使復合材料的催化活性比原高分子提高了100倍。7  其他性能高分子的環(huán)境應力開裂在高分子材料的實際應用中具有很重要的意義，因為它直接引起嚴重的力學損傷和縮短高分子的使用壽命。Kilwon Cho等人[23]制備了聚(正-丁基丙烯酸酯)橡膠為核，聚苯乙烯或苯乙烯與丙烯腈共聚物(SAN)為殼形成直徑大小為0.2μm～2μm的微球粒子，再將微粒子聚苯乙烯或SAN復合形成納米復合物。實驗證實，在苯乙烯高分子中加入橡膠粒子可以提高高分子在氟蒸氣環(huán)境中應力開裂的抑制能力。對橡膠改性的聚苯乙烯粒子，直徑為1μm～2μm的大粒子表現(xiàn)出較高的抑制環(huán)境應力開裂；而對于橡膠改性的SAN，直徑為300nm大小的粒子表現(xiàn)出最好的抑制環(huán)境應力開裂的性質(zhì)。G．Camino等人[24]在熔融過程，形成葉硅酸鹽與聚(乙烯—共—乙酸乙烯酯)的納米復合物，并用錐形量熱法研究了復合物的燃燒行為。實驗發(fā)現(xiàn)，微米高分子燃燒時與純高分子的燃燒相同。硅酸鹽的含量為2％～5％的納米復合物燃燒時，放熱量減少70％～80％，因為在納米復合物中形成了保護炭化的陶土表面層。北京大學的Weixiao Cao等人將C60羧酸衍生物與重氮樹脂通過靜電作用分別在石英、云母、氟化鈣基質(zhì)上形成一種新的自組裝超薄膜，然后用紫外光照射使重氮基分解，提高膜的穩(wěn)定性能，他們還用原子力顯微鏡和摩擦力顯微鏡研究了此超薄膜的微摩擦性質(zhì)，結(jié)果表明膜中的C60分子具有承載能力和較小的摩擦力。Desu等人[25]發(fā)明了一種具有低電介常數(shù)的納米復合物薄膜。他們在近室溫的溫度下將氧化電介質(zhì)和有機高分子通過化學氣相沉積方法共沉積獲得SiO2／聚對氯甲苯納米復合物。該發(fā)明中的納米復合物薄膜可用于半導體器件，平板顯示器中的電介層也可用于食物包裝、硬盤驅(qū)動器、光盤驅(qū)動器等。金屬氧化物電介材料可以是正—丁基氧化鋁、正—丁基氧化鈦、正—丁基氧化鋅、正—丁基氧化鎳、異丙基氧化鋯等，高分子可以是聚對二甲苯、聚(氯—對二甲苯)、聚(二氯—對二甲苯)、聚(四氟—對—二甲苯)。Jui-Ming Yeh等人[26]發(fā)現(xiàn)用烷基磷季胺鹽作為插層劑可以提高聚甲基丙烯酸甲酯／粘土復合材料的抗腐蝕性能　　相容劑可以使原本不相容的兩相或幾相共混時產(chǎn)生均相共混體系。Rafailovich等[27]發(fā)明了一種由有機粘土和插層劑復合而成功能化的納米復合物相容劑。他們選用的插層劑是聚胺和烷基鹵化物在極性溶劑中功能化反應的產(chǎn)物。相容劑常用在薄膜特別是微刻印術(shù)的應用中，也可用作低容量磁盤的潤滑劑?！　.A.Goedel等人[1]率先報導了通過LB膜技術(shù)形成的一種具有55nm孔徑的氣孔，膜厚為40nm的自立式超薄膜。他們將憎水的硅膠膠體和端基帶有季胺鹽的聚異丙烯在水表面鋪展形成雜化單分子層，掃描電鏡發(fā)現(xiàn)硅膠粒子有序地鑲嵌在高分子基質(zhì)表面，再光化學交聯(lián)聚異丙烯，并轉(zhuǎn)移到100mm寬的金格子基質(zhì)上形成自立式雜化膜，然后置于氟化氫氣體中腐蝕除去膜表面的膠體粒子就產(chǎn)生了具有均勻納米孔洞結(jié)構(gòu)的膜。這些多孔膜可用作過濾介質(zhì)、形成表面圖案的模板或形成其它納米結(jié)構(gòu)。