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PS版耐印力初探(上)

2010/8/17 9:07:44 人評(píng)論

PS版耐印力初探
  預(yù)涂感光平版(又稱PS版)從50年代開始應(yīng)用至今,以其分辨率高、網(wǎng)點(diǎn)光潔、耐印力高等特點(diǎn),逐步替代蛋白版、多層金屬版等版材,成為現(xiàn)代快速印刷的新型版材。目前,正常情況下,PS版的耐印力一般在10萬印左右,經(jīng)過烘烤的PS版耐印力可提高3-5倍,達(dá)到30萬一50萬印,但現(xiàn)在有許多廠家反映PS版耐印力不高,一般只有2萬一3萬印,甚至才印幾千張就開始掉版。這里,本人僅就個(gè)人經(jīng)驗(yàn),依照PS版生產(chǎn)工藝流程,對(duì)PS版耐印 力進(jìn)行版材生產(chǎn)和制版工序的粗略探討和分析。
  一、版材選擇
  PS版的版基是鋁。用于PS版的鋁材,屬于一般工業(yè)級(jí)純鋁,厚度一般在0.3mm,含量為99.5%.主要雜質(zhì)為鐵和硅,其次是銅、鎂、鋅、錳、鈦等。鋁板中少量雜質(zhì)的存在,能提高純鋁的抗拉強(qiáng)度和硬度,減小延伸率,降低鋁的導(dǎo)電性能。
  二、感光劑的組成和涂布
  PS版用感光劑由感光性物質(zhì)、成膜性高分子樹脂、染料、有機(jī)溶劑組成。對(duì)于單獨(dú)使用光敏劑配成感光劑涂布的感光層,其耐堿性強(qiáng),成膜性差,顯影困難;在光敏劑中加入適量的酚醛樹脂。雖耐堿性較差,但成膜性和吸附性得以提高,兩者的配比為0.5∶1或0.62∶1,如果光敏劑少,成膜樹脂多,則耐堿性降低,網(wǎng)點(diǎn)易損失,殘膜率低,直接降低印版耐印力。
  PS版感光劑的涂布需用專用涂布機(jī),才能保證涂布后的感光層厚薄均勻。涂布機(jī)一般分為單張版和卷 筒版兩類。在涂布方式上,有鋪流式、輥涂式、擠壓式和靜電涂布式。我們不提倡使用離心式涂布。我國(guó)常用輥涂式,為保證涂布質(zhì)量,一般陰圖型感光層固 體含量為 1g/m2左右。陽圖型為2-2.5g/m2,厚度一般為(20±1.0)mg/dm2。當(dāng)涂布產(chǎn)生橫向條紋等故障時(shí)應(yīng)及時(shí)排除。
  三、PS版的制版
  PS版制版的關(guān)鍵是最大限度地再現(xiàn)膠片的網(wǎng)點(diǎn)和階調(diào),在印版表面形成牢固的親油基礎(chǔ)和穩(wěn)定的親水基礎(chǔ)。否則,不僅浪費(fèi)了時(shí)間,更嚴(yán)重的是降低了印版耐印大,浪費(fèi)版材。直接影響制版質(zhì)量的一系列因素包括制版原版.PS版的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性,制版設(shè)備和條件。制版工藝和操作,特別是曝光、顯影條件等。
  1.曬版原版
  PS版的陽圖或陰圖原版,可用傳統(tǒng)的照相制版、電子分色及照排等方法制成。除了階調(diào)再現(xiàn)曲線應(yīng)有所調(diào)整外,還必須注意原版的密度反差和網(wǎng)點(diǎn)光潔度。由于原版的Y值過低,曝光、顯影不足或減薄過度等原因。容易形成密度低的軟性網(wǎng)點(diǎn)或者是中間密度大,邊緣密度小的活性網(wǎng)點(diǎn)。這兩類網(wǎng)點(diǎn)的曬版穩(wěn)定性差,曝光、顯影稍有變化,就會(huì)使印版深淺不一,從而直接影響印版 耐印力。硬性網(wǎng)點(diǎn)的原版,由于密度高,網(wǎng)點(diǎn)光潔,曝光和顯影的寬容度都較大。所以質(zhì)量穩(wěn)定。因此,曬版用原版字跡圖案必須清晰且要密度大,反差大。以華光牌YZ-600 11型膠片為例.原版最大密度應(yīng)在4.0以上。 最小密度在0.05以下,反差系數(shù)在8.0以上,版面清潔減少灰霧度和拼貼。
  2.曬版光源
  對(duì)于曬版光源。由于感光劑的感光是一個(gè)氧化還原反應(yīng)。只有感光劑充分吸收T足夠的光能才能發(fā)生,并且它的分解、交聯(lián)、合的程度是和所需光線強(qiáng)度和光照時(shí)間成正比的,因此,曬版光源的發(fā)射光譜與感光劑光敏曲線 的敏感區(qū)應(yīng)盡量匹配。實(shí)驗(yàn)證明,陽圖型感光刺的分光感度在300nm-460nm以內(nèi),附圖型在200nm-500nm以內(nèi)??紤]到曬版原版和曬版玻璃的影響。光譜設(shè)計(jì)在350nm-460nm區(qū)域內(nèi)較適宜,因此,現(xiàn)在曬制PS版的較理想光 源為碘鎵燈。(未完待續(xù))

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