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CPP薄膜生產(chǎn)工藝要點(diǎn)及在國內(nèi)的應(yīng)用三

2007/8/10 15:04:24 人評(píng)論

四、CPP膜原料        CPP膜生產(chǎn)要選用專有牌號(hào)的樹脂,一般要求熔體流動(dòng)速率(MFR)為6~12g/10min的樹脂,有一定熔體流動(dòng)性,如上已述,流延生產(chǎn)樹脂有PP均聚物和PP共聚物,PP共聚物特點(diǎn)是低溫下仍具有優(yōu)良的沖擊強(qiáng)度,熱封性好。表3為幾個(gè)有代表性的CPP牌號(hào)性能。      其他常用CPP牌號(hào)有:Shell公司的PLZ615A,新加坡TPC公司的FL7015、FL7012、FL6314、FL6416,日本窒素公司的CF3017、XF7523,韓國三星綜合化學(xué)公司(SGC)的HF400、HF420、RF420T、RT401T、TF420、TF400F2,韓國湖南石化公司(Ho-nan)的SFC-150N、SFC-750,韓國現(xiàn)代石化公司的H3400、R3400、R3410,意大利Montedison公司的YX37F,北歐化工公司(Borealis)的KD701H等。     從有關(guān)的資料查到的CPP牌號(hào)還有:日本住友化學(xué)公司的FL80113、FL8111L、FL6315、FL6315G、FL6631,日本石油化學(xué)公司的F150J、F450J,美國Finathene公司的3878(均聚物,MFR高達(dá)3710g/10min),韓國三星綜合化學(xué)公司的HF400(MFR為810g/10min),耶510(MFR為1110g/10min)等。另外日本用于BOPP復(fù)合的CPP牌號(hào)有:昭和電工公司的LS711、FD530,住友化學(xué)公司的FCC6411A。  對(duì)三層共擠CPP的各層原料要求如下:  (1)電暈處理層(電沖擊層)  MFR為6-12g/10min      用作復(fù)合基材的三層共擠CP膜,為了提高其對(duì)油墨的粘著牢度以及與其他材料的復(fù)合強(qiáng)度,必須對(duì)它進(jìn)行電暈處理。利用高頻發(fā)生器(H1F1G)產(chǎn)生的大量等離子氣體及臭氧與聚烯烴表面分子直接或間接作用,使其表面分子鏈上產(chǎn)生羰基和含氨基團(tuán)等極性基團(tuán),并粗化其表面,同時(shí)還能除去油污、干燥水氣和塵垢。為滿足印刷和復(fù)合的需要,表面潤濕張力達(dá)到318×1024N/cm就可以了,但是薄膜成型后總是要擱置一段時(shí)間才投入下道工序,在這段時(shí)間內(nèi)表面潤濕張力將會(huì)有所衰減,特別是頭十天內(nèi),衰減速度較快。為了抵消上述衰減,要求初始的表面潤濕張力值必須達(dá)到414×1024~418×10-4N/cm。當(dāng)然表面潤濕張力值不能處理得過高,否則薄膜表面因氧化過度而發(fā)脆,造成機(jī)械強(qiáng)度下降。           表面潤濕張力的下降幅度與樹脂中低分子添加劑的含量有直接關(guān)系。低分子物越多,表面潤濕張力的下降幅度越大。據(jù)報(bào)道,當(dāng)潤濕劑含量大于2000μg/g時(shí),表面潤濕張力在一周內(nèi)衰退得很快。潤濕劑含量控制在800~1200μg/g以內(nèi)時(shí),情況就大為好轉(zhuǎn)。綜上所述,對(duì)電暈處理層原料的要求是:既要有一定的抗粘連性,又要嚴(yán)格控制低分子物的含量。   (2)中間層(芯層)    MFR最佳為6~10g/10min。        芯層首先要有出色的剛性,所以芯層大多使用均聚物制成。三層共擠CPP膜的芯層,其重量占全部膜重的60%~70%。剛性是否達(dá)到要求,直接關(guān)系到后道工序能否順利進(jìn)行。其次三層共擠CPP膜的良好光學(xué)性能(低霧度、高光澤度)也主要取決于芯層??傊?,CPP薄膜的優(yōu)越性能基本上靠芯層來體現(xiàn),芯層的加工條件是最為苛刻的。   (3)熱封層(非處理層)    MFR為6~12g/10min。      除了滑爽性、抗粘連性、析出量少、揮發(fā)成分少等特性外,熱封層首先要具備良好的熱封性能。如前所述,多層共擠CPP薄膜可分為蒸煮型和非蒸煮性兩種。蒸煮型又分為兩種:一種是用于100—120℃蒸煮,原料用無規(guī)共聚物;另一種用于120℃以上蒸煮殺菌,原料必須用三元共聚物。由此可見,一般的無規(guī)共聚物并不能滿足CPP熱封層的全部要求,而開發(fā)三元共聚物才具有較強(qiáng)的競爭力。    (待續(xù))

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