5、用于抗電鍍的濕膜選擇 首先應(yīng)滿足雙面板的圖型電鍍及多層板升層的圖型電鍍,以及標(biāo)牌面板和裝飾性較強(qiáng)的金屬畫的電鍍?! ?.1良好的觸變性 用于雙面板及多層板升層的圖型電鍍的濕膜選擇較為嚴(yán)格。首先是濕膜應(yīng)有良好的觸變性和所規(guī)定的粘度。在網(wǎng)印時隨著潤量(即在網(wǎng)印前為使?jié)衲つ軡?網(wǎng)版,在承印物上放一張干凈白紙,刮印幾次在紙上;正式印時將紙掰掉)次數(shù)的增加,逐感油墨變稀,而印在承印物上且流延較小,保持著油墨的厚度,從而杜絕了濕膜流入孔內(nèi),顯示出良好的觸變性?! ?.2耐顯影性 它的耐顯影性應(yīng)表現(xiàn)在規(guī)定的范圍內(nèi)有較大的寬容度。在規(guī)定和正確的曝光條件下,線孔邊或焊盤上的濕膜被顯掉后圖型的線條不能變粗或變細(xì)。不能有殘膜?! ?.3良好的耐電鍍性 首先能抗擊電鍍前的酸性或堿性去油液,能耐鍍銅、錫鉛、鎳金、純錫(包括鍍黑錫),應(yīng)不起皮、濕膜不褪色(不能污染藥液)、不滲透、不脫落(前面有部分?jǐn)⑹觯?。在?guī)定的工藝條件內(nèi)褪膜較易?! ?.4對濕膜成分中固體含量的要求用于抗電鍍的濕膜,其固體含量應(yīng)保持在70%~75%,在使用中不能加稀釋劑。如果粘度較大,可用攪拌或用粗網(wǎng)印刷便可解決。 5.4.1濕膜的固體含量、厚度和鍍層關(guān)系雙面板和多層板的升層在圖型電鍍時均進(jìn)行:二次鍍銅、鍍純錫(或鉛錫或鎳金)??妆诤捅砻娴腻儗右黾訕?biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的0.015~0.025mm,那么耐電鍍的濕膜也應(yīng)達(dá)到或近似這個厚度(指干燥后)。如果膜層很薄,鍍層將會出現(xiàn)突沿(也稱壓邊),去膜后線條的兩側(cè)將會有一條極細(xì)的濕膜被鍍層壓住,蝕刻后將會出現(xiàn)邊緣不整齊,達(dá)不到陡直的效果,嚴(yán)重時造成報廢。如果固體含量低,無論用何種方法一次無法印出所需厚度,也會出現(xiàn)堵孔現(xiàn)象,給下道工序帶來麻煩。 5.4.2滿足厚度的必要條件和測算 為滿足電鍍時所要求的濕膜厚度,進(jìn)行網(wǎng)目的選擇是非常必要的。從絲網(wǎng)的材質(zhì)上應(yīng)選擇尼龍絲網(wǎng),因?yàn)樗辛畠r、較小的摩擦系數(shù)、良好的透墨性和平滑性,這在手工印刷時操作者省力,且獲得較多的透墨率。網(wǎng)印時影響濕膜厚度的因素很多,有兩個恒量:絲網(wǎng)厚度和濕膜的固體含量。變量有:刮板硬度、刮印時刮板和承印物的角度、刮板壓力的大小、刮印的次數(shù)、刮印度速度。這里提供一個計算公式參加:Ft·S 公式中Ft為絲網(wǎng)厚度,S為固體含量。其實(shí),F(xiàn)t·S也只是膜厚的理論值,但有關(guān)資料所提供的數(shù)據(jù)同本公式出入較大:即刮印一次留在承印物上的濕膜僅有網(wǎng)厚的25~30%,準(zhǔn)確地計算必須考慮以上的五條變量因素。許多資料也列表提供使用不同網(wǎng)目數(shù)所印出的不同厚度。實(shí)踐表明:隨著網(wǎng)數(shù)的減少而印的漸厚,但同所標(biāo)識的數(shù)據(jù)相差較大。所以,也只能按自己的產(chǎn)品要求的膜厚選擇絲網(wǎng),并認(rèn)真地將五個變量考慮進(jìn)去,才能算出較準(zhǔn)確的膜厚。 6、濕膜在使用中的缺陷:氧的阻聚 在濕膜曝光時,氧的阻聚能使光化交聯(lián)速度減慢直至阻止,嚴(yán)重時還能使膜面發(fā)粘。氧的阻聚有兩個方面:一是對引發(fā)劑的影響,可是激發(fā)狀態(tài)下的光敏劑猝降,降低了引發(fā)劑的效率。二是在聚合過程中有阻聚作用。 6.1調(diào)整濕膜配方降低氧的阻聚 為了躲避氧的干擾,使?jié)衲ぴ陉柟庀马樌瓿删酆希湍圃焐毯蛯<覀冞M(jìn)行了長期的探索和實(shí)踐,找出了許多方法:如在濕膜配方中選擇理想的光敏引發(fā)體系,使氧和固化體系隔離;提高光敏引發(fā)劑的濃度;選擇合適的樹脂等。這些方法雖然收到了一定的成效,但也只是最大程度上減少了氧的干擾,這種干擾在制造一般圖型時可以不考慮,然而在制造細(xì)線或精細(xì)的圖型時就必須認(rèn)真去克服,否則達(dá)不到預(yù)期的效果(指制造2mil的細(xì)線和網(wǎng)點(diǎn)) 6.2光能量的計算和實(shí)例: 公式: E=I·T 其中I=光強(qiáng),用mv/㎝表示 T=時間,用秒為單位, E=光能量,用mj/cm表示 例:我們測算一曝光機(jī)的光強(qiáng)為10mv/cm,選用曝光時間為10秒: 共光能量E=I·T=10·10=100mj/cm 同樣測得另一臺曝光機(jī)的光強(qiáng)為5mv/cm,選用曝光時間20秒也能獲得100 mj/cm的光能量。但是經(jīng)過曝光顯影后用100×的放大鏡觀察,后者線條變粗(陽紋)、變細(xì)(陰紋),嚴(yán)重時顯影困難。因?yàn)闈衲さ纳蠈邮躑V光照射后很快產(chǎn)生交聯(lián),但后者因強(qiáng)度較小UV光不低瞬間射入底部,這時氧從非曝光區(qū)進(jìn)入缺氧的曝光區(qū),因時間的加長及光的擴(kuò)散,部分交聯(lián)和聚合不能及時完成,氧停留在曝光區(qū)及周圍。此現(xiàn)象多發(fā)生在用濕膜較厚的產(chǎn)品,如模具,或分辨率較高的產(chǎn)品柵網(wǎng)等。雙面板及多層板升層細(xì)線的圖型制造也在此范疇?! ?.3在曝光工序中降低氧的阻聚 另外一個解決辦法就是在曝光的工序中去考慮,如上所述解決的辦法就是增加曝光強(qiáng)度相對地縮短曝光時間,短時間內(nèi)溶解氧的速度快于氧擴(kuò)散進(jìn)入曝光區(qū)的速度,也就是在非曝光區(qū)的氧還未進(jìn)入曝光區(qū)時已經(jīng)完成了整個曝光程序,UV光能迅速地射入濕膜的底部完成聚合和交聯(lián)?! ?、濕膜市場的紅火和銷售戰(zhàn) 正是濕膜的優(yōu)良耐蝕刻性和耐電鍍性,除用電路板外又被用于其他行業(yè)(前面已有敘述),因此國內(nèi)外的油墨商們看準(zhǔn)市場,紛紛搶灘登陸。首先是日本濕膜進(jìn)入我國市場,隨后英國、德國、美國、意大利、韓國、新加坡接踵而至。在國內(nèi)以臺灣地區(qū)品牌較多,其次為北京、廣東、江蘇、浙江也有生產(chǎn)。經(jīng)本人的不完全統(tǒng)計,國內(nèi)外有近30個不同品牌的濕膜在市場上競爭銷售。制造商之多、品牌之多沒有哪個國家能和我們相比,真可謂世界之最!所以說是個買家市場,一定要選擇環(huán)保好、質(zhì)量好、價格合理的濕膜?! ?、結(jié)論 盡管最初濕膜是用于電路板圖型蝕刻和圖型電鍍的掩膜,但由于它的優(yōu)良的抗蝕性、抗電鍍性、較高的分辨率等被廣泛地應(yīng)用到標(biāo)牌、面板、建材和裝飾行業(yè)。尤其在標(biāo)牌面板行業(yè)取代了重鉻酸鹽感光膠,杜絕了六價鉻的排放,為環(huán)保立了一大功,為操作者改善了工作環(huán)境。用于電鍍時刻時,大大降低了成本,而在電路板行業(yè)使用濕膜的成本只有干膜成本的50%~65%,這是它的生命所在。目前,它的使用范圍還會繼續(xù)擴(kuò)大。有人問今后濕膜會否全部代替干膜?本人不好回答,只知道近期有的大型印制板廠正在進(jìn)行為應(yīng)用濕膜的技術(shù)改造…… 來源:薄膜開關(guān)技術(shù)論壇
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