3.2.6曝光 預(yù)烘后的基板，靜置冷卻至室溫，就可進行曝光。曝光應(yīng)在預(yù)烘后24h內(nèi)完成，否則會導(dǎo)致顯影困難。曝光分為接觸曝光型和非接觸曝光型。目前市場上以接觸曝光型居多，它代表了阻焊膜加工技術(shù)的發(fā)展方向。 曝光以銀鹽底片或重氮片作掩膜，在帶冷卻系統(tǒng)的真空曝光機上進行。曝光機的功率不能過小，一般在5kW～8kW。曝光光源可用發(fā)射光波長在310nm～420nm的鹵素燈管，以利于感光油墨的吸收。DSR-2200NC阻焊油墨的曝光吸收能量要求在400mj/cm2～600mj/cm2，若印膜較厚，同樣應(yīng)適當延長曝光時間，以使曝光充分?！ ∑毓馐亲韬改ぜ庸さ年P(guān)鍵步驟，很大程度上決定阻焊膜的加工質(zhì)量。曝光能量不足，最直接的反映是，在顯影時，阻焊膜受到浸蝕而表面失去光澤，嚴重時阻焊膜表面甚至出現(xiàn)“龜裂紋”，導(dǎo)致報廢。間接的反映是導(dǎo)致阻焊膜耐溶劑、耐酸堿、耐熱沖擊等物理特性下降，無法保證使用壽命。此外，曝光時曝光夾應(yīng)達到一定的真空度，使掩膜緊貼板面，但真空度又不能過大，否則會導(dǎo)致底片與板面粘連。這也是阻焊膜表面起“云霧”的1個原因。曝光夾溫度應(yīng)控制在40℃以下。如果冷卻系統(tǒng)達不到要求，則連續(xù)曝光時間不能太長。1段時間后應(yīng)間歇半小時，等曝光夾溫度自然降低至室溫后再曝光。這樣雖然延長了加工周期，卻能夠保證加工質(zhì)量。曝光后的基板至少靜置10min以上，以使交聯(lián)固化完全。但曝光后的基板在12h以內(nèi)必須完成顯影，否則會導(dǎo)致顯影困難。3.2.7顯影 顯影應(yīng)在顯影機上進行。顯影時應(yīng)控制好顯影液的濃度、溫度、顯影速度和噴淋壓力等幾個參數(shù)。通常選擇顯影液的濃度為1.0％～1.2％的Na2CO3溶液；溫度控制在25℃～35℃；顯影速度在1m/min左右，時間控制在90s以內(nèi)；噴淋壓力為2kg/cm2。顯影液應(yīng)根據(jù)顯影基板的數(shù)量經(jīng)常更換，以保證顯影液的活性。顯影后用水充分沖洗，以去除板面和金屬化孔內(nèi)殘留的顯影液和膠膜。否則會導(dǎo)致下1道工序熱風整平時，焊盤和孔吹不上錫鉛。3.2.8固化 固化是阻焊膜加工的最后1個步驟，工藝方法也比較簡單。只需將顯影好的基板放入150℃±5℃熱風循環(huán)烘箱中燒烤35min～60min即可。但要很好地控制固化溫度和固化時間，否則會降低其物理性能。4結(jié)束語 液態(tài)感光熱固型阻焊油墨的加工工藝在印制電路行業(yè)得到廣泛應(yīng)用，與其工藝特性是分不開的。本文結(jié)合實際生產(chǎn)，對該工藝（絲網(wǎng)印刷型）的每一步驟進行了詳細探討，介紹了每一步驟的質(zhì)量控制方法。除嚴格控制上述關(guān)鍵步驟外，還要在熱風整平、外形加工、包裝運輸?shù)榷鄠€環(huán)節(jié)注意加強阻焊膜的保護，才能保證成品印制板阻焊膜的質(zhì)量。 航天科技集團771研究所臨潼分部
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