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DSR-2200NC阻焊油墨的工藝控制

2007/8/10 15:04:24 人評論

1引言  阻焊膜是涂覆在印制板表面的永久性保護(hù)層,它有選擇地保護(hù)印制板表面,防止焊接元器件時導(dǎo)線和焊盤間發(fā)生短路、橋接。此外,它還具有防潮、防霉、防鹽霧的作用。因此,阻焊膜質(zhì)量的好壞不僅影響印制板的外觀,而且會影響印制板的使用壽命。  隨著印制電路板的發(fā)展,幕簾涂布(或絲網(wǎng)印制)液態(tài)感光阻焊油墨(LiquidPhotoimageableInk,縮寫為LPI)已成為印制板阻焊膜加工的主導(dǎo)方法。液態(tài)感光阻焊油墨,主要以光固化及熱固化的樹脂為主體,配合感光劑、熱固化劑、填料、色料及各種助劑組成。它通過簾涂或絲印的方法涂覆到蝕刻后的基板上,經(jīng)過預(yù)烘、曝光、顯影、后固化等一系列工藝過程,最后在印制板表面形成1種交聯(lián)固化的聚合物涂層?! ∽韬改ぜ庸ね瓿珊?,必須達(dá)到附著力強、硬度高、耐溶劑、耐酸堿、耐熱油等要求。由于工藝過程較為復(fù)雜,因此不僅選擇阻焊油墨材料非常重要,而且在生產(chǎn)過程中嚴(yán)格工藝控制更是確保阻焊膜質(zhì)量的關(guān)鍵所在。下面結(jié)合實際生產(chǎn),談?wù)勅毡綝SR2200NC阻焊油墨的工藝特性及其工藝控制要求。2 DSR-2200NC感光阻焊油墨的工藝特性2.1阻焊膜的加工工藝過程  液態(tài)感光阻焊膜的加工工藝流程如圖1所示。在每個過程中必須加強工藝控制,才能保證阻焊膜的加工質(zhì)量。同是也要考慮到其它諸多因素。 2.2DSR-2200NC油墨的工藝特性  該油墨為雙組份液態(tài)感光熱固化型阻焊油墨,使用前應(yīng)按質(zhì)量比為3∶1的比例將主劑與硬化劑調(diào)制,充分?jǐn)嚢?,靜置10min,待氣泡消失后方可使用。加工成膜后,阻焊膜顏色為綠色,光亮度介于高光型和亞光型之間,物理性能良好。2.2.1使用壽命DSR-2200NC液態(tài)感光油墨的主劑與固化劑應(yīng)在25℃以下避光保存,貯存期為6個月。在貯存期內(nèi)使用,可獲得良好的效果。從實際應(yīng)用情況來看,稍微超出有效期,只要工藝控制嚴(yán)格,也不會對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響(但對產(chǎn)品質(zhì)量要求嚴(yán)格的軍用印制板,絕對不能使用過期油墨)。兩組份混合后的油墨,其使用壽命僅為24小時。由于兩組份混合油墨各成分之間存在化學(xué)反應(yīng),即使嚴(yán)格控制貯存條件,超過24小時的油墨也絕對不能使用。因此,為避免浪費,要求根據(jù)用量大小,在使用前的10分鐘現(xiàn)配現(xiàn)用。2.2.2操作條件  絲印操作間一般要求控制的環(huán)境條件如下: ?。?)溫度:18℃~25℃;  (2)相對濕度:50%~60%;  (3)凈化等級:10000級以上; ?。?)安全光:黃光?! …h(huán)境溫度主要對油墨粘度產(chǎn)生影響。溫度低,油墨粘度大,絲印操作困難,阻焊膜厚度增加;溫度高,油墨粘度低,流動性大,絲印阻焊膜過薄,達(dá)不到要求。DSR2200NC阻焊油墨粘度與溫度的關(guān)系如圖2所示。絲印前基板預(yù)干燥不充分或干燥后自然冷卻,會因周圍環(huán)境相對濕度較大,導(dǎo)致基板重新吸潮,將對絲印后涂層的結(jié)合力及銅面狀況產(chǎn)生不良影響。導(dǎo)致阻焊膜下銅箔氧化,產(chǎn)生黑斑,影響印制板外觀;或受熱沖擊時,阻焊膜起泡、脫落。因此,操作間環(huán)境濕度不能過高,一般應(yīng)控制在50%~60%相對濕度。如果由于條件所限,無法保證,就應(yīng)對絲印前預(yù)干燥嚴(yán)加控制。特別是基板的數(shù)量較多時,應(yīng)分批烘板,分批絲印。另外,印B面時,也要對冷卻時間加以控制,嚴(yán)防基板面重新吸潮?! ∽韬赣湍谖雌毓夤袒?,周圍環(huán)境中存在的微塵、紙屑、棉纖維、頭發(fā)等很容易吸附到油墨上,繼而涂覆到基板面上,成為阻焊膜上的多余物。不僅影響產(chǎn)品外觀,而且部分導(dǎo)電塵屑還會影響印制板的電性能,導(dǎo)致基板報廢。因此,操作間的凈化度應(yīng)達(dá)到一定等級。實際操作中,如果條件不具備,搞好環(huán)境衛(wèi)生就顯得非常重要,要求至少能保持地面、設(shè)備臺面干凈,嚴(yán)禁把灰塵帶入操作間內(nèi)?! SR-2200NC阻焊油墨系感光材料,光譜吸收區(qū)域波長為310nm~440nm。因此操作時必須在安全光譜波長范圍內(nèi)進(jìn)行,一般在波長≥460nm的黃光區(qū)內(nèi)操作。(待續(xù))

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