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     具有阻隔性的包裝材料用基材，從來都是以鋁箔為代表。但是如果要求透明性，鋁箔就無法滿足。因此透明性阻隔基材就成為一個開發(fā)方向。東洋油墨制造株會社等企業(yè)已開始探索利用真空蒸鍍的方法來開發(fā)透明阻隔薄膜。需要透明阻隔性能的領域有食品包裝、醫(yī)藥包裝、電子材料等。本文著重敘述在食品包裝領域的運用情況?！　∥鹩枚嘌?，防止內(nèi)容物變質是包裝的基本功能。為了滿足這些要求的一部分或大部分，作為容器用基材，必須具有高阻氧性、阻水蒸氣性、蒸煮殺菌處理耐性，還有電爐灶適性、透明性等要求。僅僅利用現(xiàn)有的包裝基材進行組合，可以部分滿足上述要求，但是要完全滿足上述要求，僅靠現(xiàn)有材料是困難的?！　』谝陨锨闆r，下面概要敘述新基材即蒸鍍透明阻隔薄膜的性質，并看它是否能滿足上述要求?！　∫弧⒉Ａз|蒸鍍阻隔性薄膜　　作為包裝容器，玻璃兼有透明性、阻氧性、耐蒸煮性及電爐灶適性。如果能夠把玻璃薄膜化，涂在塑料薄膜上，玻璃就可以柔軟，像蒸鍍鋁薄膜一樣作為包裝材料作用。　　但是實際上利用蒸鍍的方法在塑料薄膜上形成玻璃薄膜會遇到很多困難?！　?．玻璃質的蒸鍍　　這里所說的玻璃是指符合ASIM定義的“玻璃是熔體冷卻后無結晶析出且可以固化的無機物質”。利用這種無機物質進行蒸鍍而使其薄膜化。即使是無機物質，作為食品容器用基材使用時，自然而然對其種類有所限制。再考慮到經(jīng)濟性，到目前為止，能夠使用且最為有效的是以非晶質無水硅酸為主體的玻璃質?！　?．蒸鍍方法概要　　像SiO2那樣的升華性物質進行蒸鍍時，可以利用現(xiàn)有的蒸鍍鋁所用的高頻誘導加熱和電阻加熱蒸鍍裝置加以適當改造，或者使用EB蒸鍍中有代表性的高熔點材料用蒸發(fā)源。另外可以使用陰極蒸鍍和離子鍍等方法。實際上在進行工業(yè)蒸鍍時采用哪種方式最好，仍是今后的一個大課題?！　《?、氧化硅蒸鍍薄膜的基本性質　　現(xiàn)有就氧化硅蒸鍍薄膜的基本性質中的物理性質做一概述。東洋油墨制造（株）一般把氧化硅蒸鍍薄膜稱為GT薄膜。在本文中所使用的GT薄膜就是指氧化硅蒸鍍薄膜?！　?．關于膜厚　　雖然說膜厚就是以長度單位表示的蒸鍍層厚度，可實際進行測量卻是一件困難的事。也就是說，蒸鍍層并不是一個完整的整體，它比純粹的該物質的密度要低?！　〖词故钦翦冧X薄膜也是如此。蒸鍍鋁通常是測其導電性然后換算成膜厚。換算時為了得到必要的基準，因此必須使用某些方法來測定實際厚度；在重量分析法中，如果不知道蒸鍍膜的外在密度，那就沒有意義。由此可見膜厚測定的困難程度。本報告中以觸針法所得結果作為基礎?！　?．阻氧性與膜厚　　阻氧性當然隨著膜厚的增加而增加。如圖1所示，它與鋁箔呈同一傾向?！　?．實用上的氧氣阻隔性　　在實用的包裝材料中，蒸鍍薄膜一般不單獨使用，而是與熱封層復合后使用，這時復合膜具有很重要的實用阻氧性?！　∫话闱闆r下，為了推定高分子薄膜復合后的阻隔性，可以采用與并聯(lián)電路總電阻相同的計算式進行近似計算?？墒窃诤芏嗲闆r下，蒸鍍薄膜采用這樣的計算式是不適合的。例如：氧氣透過率為5ml/m2·24hr的蒸鍍薄膜與2000ml/m2·24hr的聚乙烯薄膜復合后的綜合氧氣透過率為1．0ml/m2·24hr以下。這是因為在很多情況下蒸鍍層存在微小的物理缺陷。我們可以通過層合而彌補。　　表1 蒸鍍膜的光學折射率氧化物 折射率1.SO 2.06-2.152.Si3O4 1.80-1.903.Si2O3 1.654-1.6584.SiO2 1.425-1.5945．蒸鍍膜 1.66-1.80